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PHI 硬X射線(xiàn)光電子能譜儀，下一代透明發(fā)光材料使用直徑約為10nm~50nm 的納米量子點(diǎn)(QDs)，結合使用 XPS(Al Ka X射線(xiàn))和 HAXPES(Cr Ka x射線(xiàn))對同一微觀(guān)特征區域進(jìn)行分析，可以對 QDs 進(jìn)行詳細的深度結構分析。

PHI X射線(xiàn)光電子能譜儀 提供了一種全新的用戶(hù)體驗，儀器高性能、全自動(dòng)化、簡(jiǎn)單易操作。 操作界面可在同一個(gè)屏幕內設置常規和高級的多功能測試參數，同時(shí)保留諸如進(jìn)樣照片導航和 SXI 二次電子影像精細定位等功能。